三星证实李在熔亲访ASML 力挽EUV曝光设备劣势 智能应用 影音
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三星证实李在熔亲访ASML 力挽EUV曝光设备劣势

  • 范维君综合报导

三星电子(Samsung Electronics)发出新闻稿证实,副会长李在熔出差欧洲已在10月14日返回韩国,期间访问荷兰ASML总部、国际奥委会(IOC)瑞士总部等地,主要目的在于强化与ASML的极紫外光(EUV)曝光设备合作。

综...

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