应材挑战半导体光罩日厂寡占 韩国EUV材料难摆脱日本进口
- 杜振宇／综合报导
全球最大半导体设备商应用材料(Applied Materials)正加速开发极紫外光(EUV)制程用空白光罩(blank mask)，挑战现阶段日厂寡占半导体用光罩市场的局面。相较之下，韩国于EUV相关材料自制则呈现停滞不前，尚难摆脱自日本进口。
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