全球最大半导体设备商应用材料(Applied Materials)正加速开发极紫外光(EUV)制程用空白光罩(blank mask),挑战现阶段日厂寡占半导体用光罩市场的局面。相较之下,韩国于EUV相关材料自制则呈现停滞不前,尚难摆脱自日本进口。