钰祥AMC滤网助力客户提升5纳米制程良率

钰祥企业创新先进技术提供之空气微污染解决方案，成就半导体良率稳定提升。

随着5纳米制程量产在即，晶圆制造商须以更严苛的标准掌控制程环境，才有可能达成预定的良率目标。要提高良率数值，首要控管的项目非AMC气体性分子污染物不可。AMC包含的酸、硷与有机挥发物等气体，对半导体良率的影响日趋显着。为达成严格的制程条件下，需要注意厂房里外的空调系统设计，因此，不论是安装在厂房顶部的外气空调箱(MAU)或是无尘室风扇过滤机组(FFU)的滤网都必须有优异吸附效能的特性，才能协助客户克服AMC对良率的影响，加速量产时程。

强调拥有自有品牌、自主的制造产线与客户一致的专业检测设备的钰祥企业，是亚洲最大的微污染气体滤网制造商，该公司的滤网产品已获得全球领先晶圆代工厂多年的采用，并有应用于7纳米制程的实绩案例。

总经理庄士杰表示，随着制程持续微缩，晶圆制造对于污染物控制的要求当然会越来越高。以28纳米制程为例，滤网约为每年更换即可，但到7纳米，由于无尘室对污染物的允许值变低，更换频率已遽增25倍，才能相对符合更高制程的要求。

影响滤网耗材更换率提高的主要原因是气体过滤性的除污方式要求变高，有机挥发物的过滤采用物理吸附方式，容易被高分子量、高沸点的分子置换出来，而产生释出效应，这时滤网就会被视为已经失效，必须替换，过去在7纳米制程面临FFU的控管下，耗费相当可观的成本与人力。

相较于同业的竞争产品，钰祥的滤网除了寿命提升14倍之外，再加上采用无框体设计，以最少的框材与设计把成本降至最低。另一方面，传统的三合一滤网，把除酸、除硷、除有机物的滤网黏合在一个框体，即使是单一种材料耗损也需要全面替换，造成不必要的浪费。钰祥开发的堆叠式滤网，可依需求弹性地叠加与抽换单一滤网，更具成本效益。

「要在5纳米制程控制严苛的ppb级有机挥发污染物，目前看来，滤网材料沿用既有配方的情况下，频繁更换滤网是最可行，也是业界能够接受的解决方案。对晶圆制造商来说，为了达成良率目标，势必得大幅增加滤网的使用量，这使市场竞争已成为一种军备竞赛。而钰祥将致力于扮演坚实的后备支持，实时提供滤网解决方案。」

庄士杰总经理强调，钰祥凭藉着优异的滤网效能与成本优势，从主要客户的2nd source供应商升级，且取代外商的产品，并获得其客户多年的信赖与采用。公司的营运规模如今，不仅是晶圆代工产业，也广泛应用在DRAM与面板等产业。

以某DRAM制造商为例，曾经发生某产线的良率一直无法妥善控制，但另一条采用钰祥滤网的产线却没有此一问题。后来，确认钰祥滤网的独特配方可有效过滤硫化物改善良率，但另一条产线采用的外商滤网却无法提供此效能。经此事件，充分证明钰祥的产品优于同业，而且能协助客户解决突发状况，因而获得此DRAM业者的全面采用。

随着制程要求的日益严苛，钰祥企业本着重视产品品质与服务，持续协助客户满足制程需求并精进产品，提供更完善的解决方案。从原本的MAU扩展到FFU及设备端的应用。目前产品已经就绪并进行高规格验证中，将以高端制程特别是5纳米厂为主要目标，2020年起全力推动此一新业务。