新思科技定制化平台通过台积电认证

新思科技近日宣布其数码与定制化设计平台已通过台积电最先进极紫外光微影(extreme-ultra-violate；EUV)5纳米制程技术的认证。此项认证乃植基于双方在EUV制程上多年来的广泛合作，进而提供高度优化的设计解决方案，加速新一代设计的发展。

Design Compiler Graphical synthesis工具经过严格的5纳米实施验证，并在时序、面积、功耗和congestion等方面与IC Compiler II布局绕线呈现相关性。透过代理铜柱优化的增强、多位元记忆库存、脚连结优化等创新技术，Design Compiler Graphical 5纳米功能可提升效能、功耗与面积的表现。

实现高设计密度的关键在于IC Compiler II中的增强功能，可在优化过程中直接处理复杂、多变量及二维元件摆置，同时将下游的可绕线度及整体的设计收敛达到最大。

新思科技PrimeTime时序分析与签核解决方案中的参数芯片内变异分析经强化后，能准确地掌握因制程微缩与近临界区超低功耗的节能运作所增加的非线性变化。此外，物理感知ECO经扩充后能支持更复杂的布局与电网设计规则，以改善雍塞、布局，并提升脚连结感知。

台积电设计建构行销处资深处长Suk Lee表示，5纳米EUV制程技术是台积电的核心里程碑，它将持续扩展在业界的最佳制程技术领导地位。与新思科技就流程的简化与结果效率的提升保持密切合作，让双方共同的客户可以采用此新制程技术与新思科技设计平台。这项合作关系将为高效能运算与超低功耗移动应用带来最大的process entitlement，也期待双方能就下一代节点持续进行合作。

新思科技行销副总裁Michael Jackson说道，与台积电的合作，让共同客户能充分利用台积电5纳米制程技术及新思科技的设计平台。双方的合作也加速客户取得5纳米制程技术，协助让当前最高密度的设计快速进入量产，并具备同级最佳的功耗、效能与面积表现。