自从台积电、三星电子(Samsung Electronics)先后顺利量产第一代5纳米EUV制程后，半导体产业正准备推进3纳米以下节点，然而许多挑战以及未知因素仍持续累积当中。
台积电、三星、英特尔向下推进3纳米EUV 双重曝光制程现挑战
EUV双重曝光风险高 3纳米静待high-NA新机2022试产成效
三星3纳米以下EUV双重曝光制程准备好了吗？光抢机器无济于事
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