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3纳米EUV制程挑战大

自从台积电、三星电子(Samsung Electronics)先后顺利量产第一代5纳米EUV制程后,半导体产业正准备推进3纳米以下节点,然而许多挑战以及未知因素仍持续累积当中。

台积电、三星、英特尔向下推进3纳米EUV 双重曝光制程现挑战

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三星3纳米以下EUV双重曝光制程准备好了吗?光抢机器无济于事