应材50亿美元打造EPIC中心、串连五大芯片厂 重塑半导体材料到量产研发模式半导体设备大厂应用材料(Applied Materials)于美西时间10月12日正式揭幕设备与制程创新暨商业化中心(Equipment and Process Innovation and Commercialization; EPIC)。此座位于美国加州Sunnyvale
High-NA EUV接班人浮现 ASML Hyper NA挑战5納米单次曝光ASML与光学合作伙伴蔡司(Zeiss)的工程师团队,近日于学术期刊《Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology》10月号共同发表研究论文,正式揭露现行高数值孔径极紫外光(High-NA EUV)曝光机的下一代技术「超高数值孔径极紫外光(Hyper NA