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美日大厂NF3供给增加迟缓 韩国厂商OCI Materials趁胜追击 积极增强产能

  • 黄铭章
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三氟化氮(NF3)是一种温室气体,但也是半导体及TFT LCD生产工艺中重要的工业用气体,由于其具备清洁化学气相沉积(CVD)工艺以及乾蚀刻(Dry Etching)工艺矽化物的特性,而成为目前半导体及面板产业关键的特殊气体。
  • 内文目录
  • NF3为半导体及平面显示器生产工艺的重要工业气体
  • 2010年日本厂商仍占全球NF3约3分之1产能比重
  • 韩国厂商OCI Materials在NF3产能扩充最积极
  • AMOLED及太阳能电池将进一步带动NF3需求
  • 结语
  • 图表目录 5 个图表
  • 二氧化碳及全氟碳化物(PFCs)等温室气体存活年限比较
  • 2010年各NF3厂商实际产能全球比重比较
  • 2006至2010年OCI Materials营收与营业利益率变化比较
  • 2013年全球NF3实际产能厂商别比重预测
  • 2010年OCI Materials与主要竞争公司营业利益率比较

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