业界对引进EUV最佳时机仍未有定论
- 涂翠珊／综合报导
极紫外光(EUV)微影技术的出现，为当前的IC产业迎来了一个充满挑战的过渡阶段。不论是单一曝光(single patterning)或是多重曝光(multiple patterning)，芯片厂商取舍的关键，仍在于哪种作法较符合经济效益。即使EUV在技术层面上已经就绪...
会员登入
会员服务申请/试用
申请专线：
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
关键字
