中文繁體版   English   星期五 ,4月 3日, 2020 (台北)
登入  申请试用  MY DIGITIMES236
 
ROHM
Book
尽管极紫外光(EUV)微影(lithography)技术与商业应用都还在发展中,但随著浸润式微影技术面临微缩极限,使得制程相对复杂且昂贵的EUV微影成为半导体制程实现持续微缩不可或缺关键。然而由于现...

最新报导

三星与敌人共枕 对苹果、华为营收比例提升

每日椽真:资料中心需求上下游不同调 韩国半导体危机恐在下半场

台积电3纳米部署照走 三星冲击反拉大

光宝SSD部门交割因疫情延后 PC、云端刚性需求强劲

三星确定2021年量产DDR5 惟超微和英特尔无同步支持打算