High-NA EUV接班人浮现 ASML Hyper NA挑战5納米单次曝光ASML与光学合作伙伴蔡司(Zeiss)的工程师团队,近日于学术期刊《Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology》10月号共同发表研究论文,正式揭露现行高数值孔径极紫外光(High-NA EUV)曝光机的下一代技术「超高数值孔径极紫外光(Hyper NA
Pat Gelsinger谈硬件「文艺复兴」 存儲器、光互联迎创新黄金时代随著人工智能(AI)重塑全球算力版图,前英特尔(Intel)CEOPat Gelsinger指出,AI虽然让芯片设计变得更加容易,但制造、存儲器与能源等物理瓶颈,正推动一场前所未有的硬件复兴。Gelsinger日前参与硅谷知名创投a16z最新一期访谈节目,与Raghu Raghuram、Guido