Canon庆祝日本首台半导体曝光机PPC-1上市50周年

Canon于1970年成功生产了日本首台半导体曝光机「PPC-1」，因此2020年可说是Canon正式跨足半导体曝光机领域的50周年。半导体芯片从智能手机到汽车等多领域被广泛应用，半导体曝光机在器件的制程中可说是不可或缺。随着数码技术迅速发展的同时，Canon的半导体曝光机也不断升级。

Canon曝光机的历史始于对镜头镜头技术的高度应用。奠基于20世纪60年代中期在镜头镜头开发所累积的光学技术，Canon研发出用于光罩制造的高分辨率镜头。此后，为了进一步扩大业务范围，Canon针对晶圆的IC制造，开始半导体曝光机的研发，并于1970年成功发售日本首台半导体曝光机「PPC-1」，正式跨足半导体曝光机领域。

Canon于1975年上市的「FPA-141F」曝光机实现了全球首次1微米以下的曝光，此项技术作为「重要科学技术历史数据(未来技术遗产)」，于2010年被日本国立科学博物馆产业技术历史数据信息中心收录。

目前Canon的曝光机包括 i 线曝光机和KrF曝光机产品线，并根据时代的需求不断扩大应用范围。未来，Canon将继续扩充半导体曝光机的产品阵容和功能，以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装技术。此外，在高科技发展领域为满足电路图案进一步微细化的需求，Canon也致力于纳米压印半导体制造设备的研发，使其能应用于大规模生产。

自1986年起，Canon将半导体曝光机技术应用于平板显示器制造领域，开始研发、制造和销售平板显示曝光设备。Canon未来也将持续提高清晰度和生产效率，以满足液晶和OLED显示装置的制造需求。Canon 2020年欢庆投入半导体领域迈向50周年，今后将持续进化曝光设备技术，为科技产业发展做出贡献。