中国璞璘纳米压印绕过ASML 称10分之1成本量产光子芯片
- 徐畇融／综合外电
总部位于杭州的中国半导体新创璞璘科技宣布，已成功与深圳力策科技合作验证其PL-AS真空气垫纳米压印微影（NIL）设备，可「完全避免」使用深紫外光（DUV）微影技术...
会员登入
会员服务申请/试用
申请专线：
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
关键字
