DIGITIMES - 议题精选：EUV量产甜蜜点何时到？

EUV量产甜蜜点何时到？

台积电、英特尔与三星电子均已入手ASML力拱的high-NA EUV，但在实际应用里，似乎对其打退堂鼓。台积电高层更提及A16和A14制程技术，都不会采用high-NA EUV曝光机。

英特尔暗示EUV不再是唯一解方？　台积心里有数、三星借镜

2025/6/30

近期外媒传出一位匿名英特尔（Intel）高层发表一个颇具争议的观点：未来晶体管设计，如GAAFET架构和CFET架构，可能降低芯片制造对先进微影设备的依赖，尤以EUV曝光机为最。

英特尔董事：GAAFET、CFET设计　未来将减少先进EUV微影需求

2025/6/18

近日英特尔（Intel）一名匿名董事在投资研究平台Tegus上表示，未来的晶体管设计，包括环绕闸极场效晶体管（GAAFET）和互补式场效晶体管（CFET），可以降低制造高端半导体时对先进微影设备的需求，反之将更依赖于微影后的制造步骤，并降低微影技术在制造高端芯片...

台积电暂缓High NA EUV量产　ASML罕开实验室推销

2025/6/5

台积电业务开发暨全球销售资深副总裁张晓强近来重申，台积电「不急着」采High NA EUV曝光机量产先进制程，再次引发外界对于ASML新一代重磅微影设备的好奇。

ASML拥5000供应商网络　对High-NA EUV曝光机有信心

2025/6/27

极紫外光（EUV）曝光机制造商ASML，负责技术研发的执行副总裁Jos Benschop表示，高数值孔径（High-NA）技术的新型EUV曝光机虽然目前销量较少，但按往例，有信心未来会有更多销售。而ASML发展业务的关键，在于透过约5,000家供应商等构成的...

美、日建EUV研发中心　韩国仅导入旧设备引产业忧虑

2025/6/27

为开发先进半导体技术，美国、日本政府均与民间合作，为研究机构导入极紫外光（EUV）微影设备。相较之下，韩国因预算限制仅能导入旧款设备，部分观点担忧，韩国可能在先进半导体技术竞争中落后。

英特尔详揭18A技术优势　2H25与台积电2纳米正面交锋

2025/6/25

英特尔（Intel）在VLSI 2025研讨会发表一篇关于Intel 18A（1.8纳米级）制程的论文，将所有关于Intel 18A制程技术的信息整合其中。预计新的Intel 18A节点将在功耗、效能和面积方面较上一代产品明显提升，晶体管密度提高30%、效能提升25%、功耗...

中国HBM技术续追赶　长鑫聚焦HBM3E研发

2025/6/18

与SK海力士（SK Hynix）、美光（Micron）、三星电子（Samsung Electronics）等三大存储器厂相比，中国高带宽存储器（HBM）进展有限，尤其中国存储器展受制于美国主导的半导体制造设备管制（包括曝光机、蚀刻、TSV等）短期内威胁较小。

DRAM三哥突围　传美光率先抢下SOCAMM量产批准

2025/6/13

传NVIDIA已选定美光（Micron），成为次时代存储器模块SOCAMM的首批供应商。SOCAMM为新一代低功耗DRAM模块，有望继高带宽存储器（HBM）后再写神话，备受业界瞩目。

日厂追加投资Rapidus？　2纳米7月试产成决定性关键

2025/6/4

以2027年量产2纳米芯片为目标的Rapidus，从公部门与日本民间厂商两方面筹集资金。日本公部门已于5月在法律上准备好对Rapidus进一步财务支持，但民间厂商仍希望Rapidus在量产技术上更确定之后再投资。

评析：灵魂拷问中国　没EUV如何出5纳米？DUV硬闯之后？

2025/5/29

当前中国半导体领域的突破，特别是5纳米制程上新进展，引发全球关注。尤其近期华为海思与联想分别推出内含5纳米芯片的AI PC与平板电脑，引发热议。

台积A14 2028年投产　张晓强：high-NA EUV不是非用不可

2025/5/28

台积电业务开发资深副总裁张晓强最新表示，台积电即将推出的A14制程仍未看到非要用ASML高数值孔径（high-NA）极紫外光（EUV）微影设备的理由，台积电仍在评估未来制程节点是否采用high-NA EUV微影设备。

三井化学退出三氟化氮半导体材料市场　扩大投资光罩护膜

2025/5/28

三井化学（Mitsui Chemicals）已决定退出半导体材料三氟化氮（NF3）业务。该产品目前由公司全资子公司下关三井化学（Shimonoseki Mitsui Chemicals）生产，规划于2026年3月底停止生产，并于2026年内结束销售。

传三星评估存储器光罩外包　韩国光罩供应恐告急？

2025/5/15

三星电子（Samsung Electronics）传计划将用于存储器制造的光罩（photomask）外包生产。过去为防止技术外泄，光罩一直由三星自行全数生产，近期因多重原因，三星打算调整策略。

ASML拟扩产荷兰　加速EUV交货

2025/5/9

ASML似乎正在荷兰加速扩张。据荷兰媒体Tweakers.net及ED报导，ASML将在2028年前将员工迁入位于荷兰Eindhoven附近的全新Brainport产业园区（Brainport Industries Campus）。这是ASML在与Eindhoven市...

半导体厂投资放缓　Lasertec下修2Q展望

2025/5/7

日本半导体光罩、空白光罩检测设备制造商Lasertec估计，原本预计市况会从2025年4~6月开始复苏，但看来低迷的状况可能会持续。

台积张晓强：A14制程仍不采high-NA EUV

2025/4/29

台积电23日于加州举办的北美技术论坛，揭露下一代A14先进制程技术，是否会采用高数值孔径（high-NA）极紫外光（EUV）微影技术受到瞩目。

中国中科院EUV技术新突破　成功建立光源实验平台

2025/4/29

在全球半导体产业格局因技术封锁与地缘竞争而日趋复杂之际，中国科研重大领域再传捷报。近日，中国科学院上海光学精密机械研究所（简称上海光机所）宣布，在极紫外光（EUV）曝光关键技术取得重大突破，已成功建立EUV光源实验平台，为中国摆脱半导体领域「卡脖子」往前再迈出关...