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High NA EUV商转进程仍取决于商业成本考量 Low NA多重曝光短期内仍是主流选择
根据ASML于SEMICON Taiwan 2026揭露的数据，截至2026年9月，全球已有10臺High NA EUV系统于4家客户端投入运作，另有3臺处于出货或安装阶段，累计曝光量超过135万片晶圆。...
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