日本扩大管制半导体设备出口 纳管SEM及ALD趋严对中国影响较大
日本自2024年9月起扩大管制半导体前段制程用微影、薄膜沉积等设备出口,并纳管扫描型电子显微镜(Scanning Electron Microscope;SEM)、量子电脑及相关芯片。DIGI...
- 2024年9月日本第二波半导体设备出口管制 追加纳管SEM及先进技术
- 日本管制半导体设备出口 2024年输往中国的金额仍将创高
- 日本于半导体前段制程设备供应扮演重要角色 出口管制将牵动中国半导体布局
- 日厂是全球半导体成熟制程用微影设备重要供应来源
- 日本扩大管制微影设备出口 有意防止中国运用DUV重复曝光技术实现先进制程生产
- 扩大管制半导体薄膜沉积设备 日本纳管无电镀技术并去除CVD模糊规范
- 日本扩大管制ALD设备出口 去除模糊规范且列管条件更严格
- 日本扩大管制化合物半导体薄膜沉积设备出口 不利中国发展EV上游技术
- 日本纳管扫描型电子显微镜 恐影响日立先端科技营收表现
- 日美系业者为全球扫描型电子显微镜主要供应来源
- 日本纳管极低温CMOS 防止用于量子电脑
- 日本跟进美国纳管具一定运算精度的量子电脑
- 日本管制SEM出口亦涵盖相关程序 跟进美国纳管GAAFET技术
- 结语:日本第二波先进半导体技术出口管制将更不利中国布局先进制程
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