TI推出最新GaN技术 携手台达打造高效能服务器电源供应器 智能应用 影音
Vicor
Event

TI推出最新GaN技术 携手台达打造高效能服务器电源供应器

  • 李佳玲台北

德州仪器(TI)(纳斯达克股票代码:TXN)日前宣布其氮化镓(GaN)技术和C2000实时微控制器(MCU),辅以台达长期耕耘之电力电子核心技术,为数据中心开发设计高效、高功率的企业用服务器电源供应器(PSU)。

与采用传统架构的企业服务器电源供应器相比,台达研发的服务器电源供应器功率密度可提高80%,效率提升1%。根据能源与气候政策公司能源创新(Energy Innovation)的估计,效率每改善1%,等于每座数据中心可节省1百万瓦(或800户家庭用电)的总系统成本。

台达为全球客户提供电源管理与散热解决方案,同时也是AC-DC、DC-DC与DC-AC电源系统的领导厂商,产品应用范围广泛,包括资通讯、电动车充电与工业电源等。TI多年来致力于半导体和电脑相关技术,投入氮化镓技术的开发、应用已长达10年,更提供C2000微控制器等实时控制解决方案,是台达长期合作的重要夥伴。

此次TI利用创新的半导体制程制造矽基氮化镓(GaN-on-silicon)技术与集成电路,协助台达等公司打造差异化应用,提升全球数据中心电源效率。

德州仪器高压电源事业部副总裁Steve Lambouses表示,「德州仪器致力于透过半导体技术使电子产品的价格更加实惠,让世界更加美好。我们的氮化镓技术将效率更高、体积更小且更为可靠的解决方案推升至了全新境界。除了投资技术发展之外,TI 对内更是强化制造生产以便为台达以及其他客户等提供支持,同时也能够迅速扩展氮化镓等新兴技术的规模。」

台达电源及系统事业群(PSBG)副总裁暨总经理尹镟博表示,「台达多年来专注于提供高能源效率的产品与解决方案,与夥伴及客户密切合作,以降低碳足迹。这也促使我们长期与TI等业界领先公司合作,持续研发并应用新一代技术。氮化镓已突破研发门槛,从未来科技转变为目前可采用的技术,将为电源供应系统带来新的设计方式,并提高产品效能和功率,尤其适合服务器电源供应器。我们的目标是使能源效率超越98%、功率密度突破每立方英寸100瓦特(W/inch3)。氮化镓技术将完全颠覆既有电源设计与架构,未来几年电源方案和产品的发展令人期待,台达也将善用新技术,进一步强化我们在数据中心与其他大型应用的电源解决方案领导地位。」

整合氮化镓集成电路可提升效率、功率密度和系统可靠性

1. 在高压、高功率工业电源应用方面,TI 的氮化镓场效晶体管(FET)整合了快速切换驱动器,以及内部保护与温度传感功能,可在有限电路板空间内达成更高效能表现。2. 集成电路均通过4 千万小时以上的可靠性测试,及超过 5 百万千瓦小时的功率转换测试,为工程师提供严谨可靠性数据,并可以氮化镓打造体积更小、重量更轻、效率更高的电源系统。

3. TI C2000实时微控制器与氮化镓电源解决方案搭配使用可提供多重优势,例如复杂与时效性处理能力、精确控制、软件和周边产品可扩充性等。此外,这些微控制器可支持不同电源设计拓扑与高切换频率,尽可能提升电源效率,彻底发挥氮化镓服务器电源解决方案的潜力。

制造与长期投资策略确保灵活供给

1. TI横跨制程、封装与电路设计技术的独家组合能够简化制程,使TI能配置不同选项,因应通讯业、工业和汽车业公司不断变化的需求,扩大矽基氮化镓产量规模。2. TI专属的完整氮化镓磊晶和组装/测试业务能力,满足工具备援要求。3. 随着市场需求增加,对于系统体积缩小却需处理更多数据的趋势持续发展,TI的长期投资与弹性制造策略,可望协助TI成长为领先的氮化镓和实时微控制器供应商。

欲知更多信息,请参阅TI网站