WoW与TSV 3D IC加入 台积电先进封装技术将持续升级 智能应用 影音
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 Slide Show: WoW与TSV 3D IC加入 台积电先进封装技术将持续升级

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台积电于2011年下半推出矽穿孔2.5D矽中介层(Si Interposer)的CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)制程技术,自此正式跨入后段封装领域,并于2014年推出扇出型晶圆级封装(FOWLP)技术的整合型扇出型(Integrated Fan Out;InFO)封装解决方案,一举取得苹果(Apple)高端智能手机核心芯片代工订单,也让先进封装技术发展成为IC制造的显学。

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