2纳米后柳暗花明 科技部大型研发计划5月起跑 智能应用 影音
DIGIKEY
Event

2纳米后柳暗花明 科技部大型研发计划5月起跑

  • 庄衍松台北

电子元件在纳米尺度下所产生的技术障壁包括元件过热、穿隧漏电效应、能量耗损、焦耳热等问题,台积电3纳米量产后,未来2纳米、1纳米之后势必会面临新的技术挑战,亟需政府整合学界力量协助。立法院近日已经三读通过总额高达新台币2,298亿元的前瞻基础建设第三期特别预算,其...

会员登入


【范例:user@company.com】

忘记口令 | 重寄启用信
记住帐号口令
★ 若您是第一次使用会员数据库,请先点选
【帐号启用】

会员服务申请/试用

申请专线:
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
会员信箱:
member@digitimes.com
(一个工作日内将回覆您的来信)