台积电、三星、英特尔向下推进3纳米EUV 双重曝光制程现挑战
- 梁燕蕙／综合报导
自从台积电、三星电子(Samsung Electronics)先后顺利量产第一代5纳米EUV制程后，半导体产业正准备推进3纳米以下节点，下一阶段EUV微影技术迈进；然而许多挑战以及未知因素仍持续累积当中。
在研发方面，各相关业者正积极开...
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