无畏制程整合风险 晶圆厂积极部署EUV技术
- 刘慧兰／综合报导
半导体晶圆代工厂正在积极部署极紫外光(EUV)微影技术，尽管该项技术在5纳米及以下制程的应用仍存有不少障碍。领导极紫外光微影技术研发的比利时微电子研究中心(IMEC)发现极紫外光在5纳米制程蚀刻特徵时，其产生随机效应(stochastic effect)的比率明显...
会员登入
会员服务申请/试用
申请专线：
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
关键字
