EUV微影技术时代逐步来临 高品质光罩检测需求同步看增
- 何致中／台北
随着半导体晶圆制造7/5/3纳米先进制程推进如火如荼，市场估计约2020年可望就有导入极紫外光(EUV)微影技术之半导体应用产品问世，台积电、三星电子(Samsung Electronics)、英特尔(Intel)等龙头大厂将在2018~2019年陆续进入EUV微影...
会员登入
会员服务申请/试用
申请专线：
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
关键字
