盛美半导体设备发布Ultra Furnace立式炉设备

盛美半导体设备，发布了立式炉设备(Ultra Furnace)为多种乾法制程应用开发的系统。立式炉设备优化后可实现高效能的低压化学气相沉积(LPCVD)应用，同时该设备平台还可延伸至氧化和退火，以及原子层沉积(ALD)等应用。此次的立式炉设备也展现了盛美中韩研发团队为时两年的合作成果。

盛美半导体设备董事长王晖表示，先进的技术节点带来了持续的挑战，这就要求设备供应商进行创新。而这种市场需求给盛美提供了重要的机会。不断创新是盛美的DNA。发现了可以受益于我们技术的市场需求，所以就将技术延伸至该新的细分市场，在盛美已建立的湿法制程产品系列上增加了Ultra Furnace立式炉产品系列，这样既可以为客户的先进产品提供整体解决方案，同时又扩大了我们的市场商机。

沉积制程是指，在高温下化学气体在晶圆表面上反应形成氧化矽或者氮化矽膜层。Ultra Furnace立式炉系统可用于批量处理多至100片12英寸(300毫米)晶圆。创新的系统设计使用了新开发的硬件，提高了耐用性，同时搭载了盛美成熟的软件技术、专有的控制系统和演算法。这些特点保证了设备能稳定地控制制程压力、气体流量和温度。

目前盛美Ultra Furnace立式炉主要面向LPCVD制程市场，后续只需对其元件和布局进行一些局部变更，就可满足其他目标应用需求。85%左右的硬件设定可保持不变，所以可有效地实现面向新应用的变动。

盛美半导体Ultra Furnace立式炉目标市场以国内为起点，逐步向韩国和台湾市场推进。盛美已于2020年初，向国内一家重要的逻辑客户的制造工厂交付了第一台Ultra Furnace。该设备用于LPCVD，目前已经在用户端安装并进行验证。