新思科技设计平台获台积电5纳米制程技术认证

新思科技(Synopsys)近日宣布，新思科技数码(digital)及定制化(custom)设计平台的多项新创新功能，已获得高效能计算(high-performance computing；HPC)及移动芯片设计所需的台积电最先进5纳米制程技术的认证。除了在HPC及移动设计流程获得认证外，新思科技的设计工具，也已获得业界领先的台积电N5P及N6制程技术的认证，可协助使用相关制程的早期客户进行设计工作。

台积公司设计建构管理处资深处长Suk Lee表示，与新思科技密切合作以确保设计流程的完善，并协助客户达到日益复杂的HPC及移动设计的要求，成功实现5纳米制程的矽创新(silicon innovations)，将持续与生态系内的夥伴合作，并持续推进台积公司最先进5纳米制程在HPC及移动设计解决方案的领先优势。

HPC及移动设计流程中各种强化的设计工具，可协助设计工程师在逻辑闸密度、效能及功耗等方面，发挥台积公司5纳米制程优于上一代制程节点的优势。从规划及布局开始，在处理5纳米的间距、连接及边界单元插入的新布局规则方面，创建了Synopsys DesignCompiler图像合成及IC Compiler II布局绕线工具的新功能。在移动设备的超低功耗需求方面，低漏电电池的种类及使用需求增加。也强化了IC Compiler II，以处理低漏电电池在合法布置上、日益成长的复杂性。

作为HPC及移动设计流程平台认证的一部分，将Synopsys的StarRC及PrimeTime签核解决方案的结果与设计实作结果进行了严格比对，以成功实现设计流程的相关目标，从而改善设计收敛并缩短整体的上市时间。

新思科技设计事业群行销及策略副总裁Michael Sanie表示，如何协助客户达成在设计及上市时间的要求，对是很重要的课题，而HPC及移动市场的快速创新，促使系统芯片开发小组探索如何善用5纳米制程技术，这项与台积电的最新合作，将提供HPC及移动设计客户更好的支持，而透过最新的解决方案以优化效能、功耗及逻辑闸密度，并帮助客户准时上市，是不断努力的目标。