泛铨扩充ALD产能　优先服务忠实客户

董事长柳纪纶(中)与工程研发团队。

半导体材料分析业「隐形冠军」泛铨科技近期完成增资，在备齐资源后，全力扩展业务版图。泛铨重视分析技术研发，在MA/FA服务拥有多项领先分析业界的技术工法，自行研发的ALD原子层沉积(Atomic Layer Deposition)真空镀膜技术，包含设备开发及特殊样品制备工法，均独步业界。

ALD真空镀膜用在MA/FA的样品制备，可保护样品维持原貌，避免人为因素增加缺陷，是半导体大厂在每一代制程微缩进行研发过程中所不可或缺。在最先进的5nm、3nm制程研发，EUV光阻、Low K等关键材料，由于材料特性，以电子显微镜技术观察材料的微结构及成分时，材料容易产生人为缺陷甚至变形、倒塌，导致制程研发人员误判，走错研发方向。

泛铨自行研发ALD真空镀膜技术，可以让样品形成盔甲保护，避免人为缺陷，呈现真实的材料微结构与成分。此技术广泛应用于MA/FA多项分析，展现绝对领先的优势。泛铨表示，协助忠实的客户在激烈的竞争中胜出，也是成长的动力。因应产能供不应求，除了新竹、台南、南京厂持续扩充ALD真空镀膜设备及产能，也祭出「忠实客户优先」的策略，全部案件委托泛铨的客户优先享有产能，能在研发竞争中更取得优势。