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TEL深化客户合作 迎接AI时代带动的半导体商机

  • 李佳玲台北

Tokyo Electron Limited(TEL)的企业创新部门副总经理関口章久博士(Dr. Akihisa Sekiguchi)
Tokyo Electron Limited(TEL)的企业创新部门副总经理関口章久博士(Dr. Akihisa Sekiguchi)

AI、IoT、云端以及自驾车等技术的兴起与汇聚,为半导体产业带来了新的荣景。然而,在制程技术迈向7nm/5nm时代,以及朝异质整合、3D架构移转的同时,业界仍有诸多挑战有待解决。

在2018年的国际半导体展(SEMICON Taiwan)论坛上,全球半导体设备大厂 - Tokyo Electron Limited(TEL)的企业创新部门副总经理関口章久博士(Dr. Akihisa Sekiguchi)以「感知物联网时代下的半导体设备」为题,畅谈了对此新趋势的看法。他强调,TEL将更强化与客户合作,共同克服各种技术挑战,让产业能够在先进制程持续享有成本降低的效益,并使AI时代智能生活的美好愿景得以实现。

AI时代来临 半导体产业商机与挑战并存

IoT技术的广泛应用,为AI大数据时代揭开了序幕。巨量数据需要被储存、处理、传送与分析,因而推升了各种半导体元件,包括存储器、逻辑、传感器、以及新兴AI芯片的需求,并可望带动整体产业的长期成长。而2018年的半导体生产设备市场,预计可创下600亿美元的历史记录。

関口章久表示:「从电脑到移动时代,半导体产业已成功透过制程微缩,持续以更精巧、更低成本、更多功能的产品来满足消费者的需求。但是,在AI时代,我们正面临了一个转折点,业者若要延续此成功模式,在芯片设计以及制程技术方面都需要有新的突破。」

首先,就芯片设计来说,目前AI功能主要用在云端,若产业想要享有AI带动的长期成长,必须把深度学习/IF(Interference Function)普及到每个IoT装置才有可能。

目前除了许多业者投入GPU、FPGA、ASIC芯片开发之外,还有采用non-Von Neuman架构的新兴神经型态(neuromorphic)芯片也正如火如荼地发展中。这是对现有CMOS电路与CPU架构的全新变革,可望带来在效能、成本与功率等方面数个数量级的提升,以加速AI应用的实现。

这是因为不同的演算法需要不同的硬件架构,传统仅透过提升处理器速度的方式已不再足够了。需要新的芯片架构、整合与系统最佳化,来满足云端与终端装置的不同需求,因此可以预见未来将有有各种不同形态的AI芯片出现。对此,TEL已与多家客户合作,以因应其特定的AI芯片开发需求。

此外,在制程技术方面,不管是DRAM、NAND和逻辑元件,也都面临了制程微缩日益困难的挑战,必须透过导入新材料、朝3D架构移转等各种创新方式来解决。

以DRAM为例,由于在D16先进制程的电容深宽比已超过50,使其已越来越不容易微缩。而NAND由于已成功移转到3D结构,使得微缩得以延续。「但我们现在谈论的是超过100层的不同材料堆叠。如何维持从上到下的尺寸一致性,是非常困难的工作」,他说。「至于逻辑元件,归功于微影技术的进展,随着EUV已在7nm先进制程导入,制程微缩得以持续。不过就制程复杂度来说,我们还需克服从平面架构到FinFET、high-K、以及5nm先进制程以下的Nanowire和Nanosheet架构等问题。」

在制造这些非常微小的3D架构时,保持制程作业的均匀度与一致性是非常重要的。从设备所需功能来看,在先进制程技术,原子级的制程控制能力已是必要条件。

加强业界合作 持续降低成本才能成为赢家

制程微缩的挑战伴随着芯片需求的成长,这意味着,成本将成为攸关产业长期发展的关键。业界虽然透过各种技术创新与新材料的运用能够克服困难,得到所需的半导体元件效能,但问题是,我们是否已经走到了如过去能持续降低成本的终点?

对此,関口章久抱持着乐观的态度,他表示:「虽然这确实是一个重要的议题,但我们不认为业界已走到降低成本的终点。就FinFET来看,此技术已经过多个先进制程时代的开发,已能成熟运用,没有生产的问题。此外,EUV的就绪,透过以双重曝光结合EUV的方式来取代现有的SAQP(自我对准四重曝光),将能为制造成本带来正面的效益。当然,EUV的产出量与成本效益是息息相关的,但在业界的共同努力下是可以克服的。至于3D NAND,它的成本瓶颈不在于微影技术,而是能堆叠的薄膜层数量,这将取决于沉积与蚀刻的生产力。」

他也强调:「虽然困难,但这些挑战是能够克服的,只要整体产业共同合作,以系统性的方式来解决。未来市场上的赢家,将是那些能在先进制程享有成本效益的业者,而这些业者正是TEL产品的使用者。」

「由于制程复杂度日益提升,每家业者都有其各自不同的需求。我们需要与每家客户建立更紧密的合作关系,提供其所需的特定解决方案。通用型的设备已无法满足其需求,特别是新材料及其化学反应,对建构这些微小架构扮演了更为重要的角色,而且从前段的元件建构到接点、连线、以及后段的封装,每种制程的考量也都不同。对此,我们需要对整合技术有更深刻的掌握,就如同我们的客户也需要更了解我们机台的功能。」

另一方面,机台的效率也是影响成本效益的重要因素。为了提升设备的生产力,利用AI与数据分析技术,朝智能制造迈进,已成为势不可挡的趋势。関口章久表示:「具备分析大量数据的能力是重要且关键的。透过运用数据分析,晶圆厂中的作业排程与生产能予以最佳化,并提升生产效能。在设备端,机台运行监控与预测性维修的概念事实上已经早已在进行。TEL也已经与客户合作,提供客户所需的解决方案,以满足其各自不同的制程条件与要求。」

最后,他强调,半导体生产设备市场的竞争非常激烈,必须协助客户降低作业成本。因此,TEL将致力于因应多样化的技术需求、持续追求更高效率、以及深化客户合作,以维持市场竞争优势。