大日本印刷完成5纳米光罩量产 与IMEC研发3纳米
- 江仁杰／综合报导
大日本印刷(DNP)宣布，针对半导体极紫外光(EUV) 5纳米制程的光罩(Photomask)量产工程，已经研发完成。此外，大日本印刷也与比利时的研发机构Interuniversity Microelectronics Centre (IMEC)，正在共同研发3纳米以下...
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