半导体业界投入EUV微影技术改善研发
- 茅堍／综合外电
尽管极紫外光(EUV)微影(lithography)技术与商业应用都还在发展中，但随着浸润式微影技术面临微缩极限，使得制程相对复杂且昂贵的EUV微影成为半导体制程实现持续微缩不可或缺关键。然而由于现有EUV微影技术具有如会造成昂贵材料浪费、效率相对较低，以及在...
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