盛美新清洗设备问世 降低硫酸废液排放
- 何致中／台北
美系设备厂盛美半导体宣布新款环境友善、低成本、高效益高效的先进晶圆清洗设备进入全球商用化阶段，其Ultra C Tahoe设备清洗效果可媲美单片晶圆清洗，而硫酸消耗量仅为其数分之一，据了解，目前设备产品线已经打入国内大陆、韩系业者供应链。
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