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宇瞻科技工业用存储器扩大抗硫化技术应用

  • 魏于宁台北

锁定边缘运算终端装置崛起趋势,宇瞻科技扩大抗硫化技术应用至DDR4、DDR3工业用存储器。
锁定边缘运算终端装置崛起趋势,宇瞻科技扩大抗硫化技术应用至DDR4、DDR3工业用存储器。

魏于宁/台北
全球工控存储器领导品牌Apacer宇瞻科技开发全球首款抗硫化存储器模块,陆续取得多国专利,以创新专业技术站稳全球。锁定工业应用情境日趋复杂、智能应用装置多元化发展,与边缘运算终端装置崛起趋势,宇瞻科技拓展抗硫化产品布局,宣布扩大抗硫化技术应用至DDR4、DDR3工业用存储器;推升抗硫化存储器模块从特殊应用跃居市场主流,成为从云端到终端,从数据中心、服务器到边缘装置的标准规格,引发存储器模块市场的新一波成长动能。

特殊应用跃居市场主流,边缘储存带动抗硫化技术应用

专利布局有成,宇瞻科技开发之抗硫化存储器模块,已陆续于美国、台湾、大陆取得专利。

专利布局有成,宇瞻科技开发之抗硫化存储器模块,已陆续于美国、台湾、大陆取得专利。

近年来抗硫化存储器模块一直是市场上关注的焦点。IDC预测,随着移动和实时数据持续成长,至2025年全球数据领域中将有超过四分之一的数据为实时数据;实时数据分析的需求,于边缘运算装置的成长扮演了重要的角色。宇瞻科技观察,因应边缘运算装置多位于条件严苛且复杂的应用环境,客户对具备实质抗硫化效果的工业用存储器模块需求也随之成长,带动抗硫化存储器模块采用率。另一方面,IPC产业领导厂商亦持续关注存储器硫化问题,深知存储器硫化对工业电脑、网通与服务器产品可靠度及使用寿命影响甚钜,要求导入抗硫化存储器模块,期能借此增进产品附加价值并创造差异化。

专利布局有成,抗硫化技术领航先驱

宇瞻科技从加速硫化实验中发现,一般存储器模块于高温、高浓度含硫的环境中,不到200小时就会开始出现硫化腐蚀情形,造成故障问题。宇瞻科技专利抗硫化存储器采用特殊的合金材质来达到最高的抗硫化效果,其元件均通过抗硫化ASTM B809-95测试规范,于105°C的高温、高浓度含硫环境下仍可稳定正常运作超过1,000小时,提升抗硫化耐用度高达5倍以上,以实质确保产品可靠度与耐用度,满足系统长时间稳定运作之需求,进而有效提升系统整体使用寿命。

宇瞻科技自发表专利抗硫化存储器模块以来,成功带动工控市场对于硫化议题的重视;而今从面临传统硫化环境威胁的工业电脑、服务器应用,到常处于开放式环境的边缘运算装置,乃至追求极高可靠度的全工业级应用,工控市场全面采用抗硫化产品的时机俨然成熟。

宇瞻科技开发之抗硫化存储器模块,为抗硫化技术领航先驱,已陆续于美国、台湾、大陆取得专利;而今进一步扩大抗硫化技术应用,率先拓展抗硫化产品布局至工业用存储器DDR4、DDR3规格。宇瞻科技重视且尊重知识产权,多年来积极投入创新与研发,至今已获得专利232项专利。有监于大陆外科技厂专利侵权案层出不穷,宇瞻也提醒,宇瞻专利抗硫化存储器并未授权任何厂商生产,客户采用相关产品时应提高警觉,以避免专利侵权问题。