泛铨科技获国家磐石奖并发展出检测EUV光阻缺陷技术

泛铨科技于2018年荣获获国家磐石奖。泛铨科技提供半导体先进制程与各种复合材料之材料分析服务，面对半导体制程微缩的趋势，材料分析的难度及挑战越来越高；泛铨科技透过多年来的技术累积、专业及高效能服务品质，在半导体先进制程材料分析领域有其一席之地；不论是仪器设备的妥善度、分析工法的研发能力、产量产能效率、客户数据保全、工程人员的稳定度，泛铨科技都居相当实力。

泛铨科技拥有自己的设备工程团队，团队成员平均年资超过10年以上，使得泛铨仪器设备的妥善度精确度远高。随着半导体制程微缩技术不断演进，TEM试片制备厚度是TEM分析能力的重要指标，泛铨不单具有超薄5nm纳米TEM试片制备能力，还有多项技术，像是如何使低介电材料(Low-k)，不因电子束的照射导致缩小、变形。

一般分析者不外乎减少电子束照射能量与提升样品强度两样方式，而泛铨科技研发团队在这两方面都有独到技术，其低介质材料的收缩比例已相当良好；再者，极紫外光(EUV)微影技术是5纳米3纳米制程继续的关键技术，目前世界各国大厂都面临极大的困难，主因是难以克服曝光光阻时产生的物理性及化学性变化引发的缺陷。

EUV光阻缺陷可藉由TEM进行形貌及成分分析，但样品制备难度极高，TEM样品必须维持原貌不变形才能分析缺陷真因。泛铨科技已发展出一套检测光阻缺陷的技术，能在保持光阻材料原貌情况下，分析曝光缺陷和制程问题，借此帮助半导体厂改良制程。

此外，泛铨科技自我研发出智能e系统进行分析案件的排程作业，客户也可以透过电脑甚至是手机24小时随时掌握委托案件的进度及交期；客户网安保全更是泛铨科技极度重视的议题，泛铨分析工法、客户的数据机密保护都提升至「国安」等级，高度防堵机密数据外泄，提供客户安心、安全且完善的材料分析服务。

人员稳定度高更是泛铨能持续的关键，泛铨科技董事长柳纪纶认为员工是合作夥伴，14以人为本，制定善待同仁的福利政策，吸引各方人才慕名而来，极低离职率使得一路以来艰辛研发的各项分析技术得以保留传承，并且更加精进。