宜鼎发表全球首支宽温DRAM 2666存储器

宜鼎(Innodisk)发表全球首支超高速宽温DDR4 2666抢搭智能化边缘运算商机，业界唯一全面抗硫标准化，定义工控进阶典范。

看好工业物联网(IIoT)、闸道器(Gateway)、边缘运算(Edge Computing)等全球应用市场在智能化设备需求上的成长力道，全球工控领导品牌宜鼎国际(Innodisk)，日前正式发表全球首款DDR4 2666宽温工控储存存储器，以2666MT/s的超高速运算，搭载工业级宽温(-40^oC至85^oC)，承接来自全球市场的庞大需求。

此外，面对日益严重的硫化污染，自2018年6月起，宜鼎宣布将于DDR4标准品规格中全面导入抗硫化技术，相较于目前业界普遍以定制方式提供抗硫加值服务，宜鼎此举除正面推动全球产业升级外，也为全球工控储存产业再度订下难以跨越的「进阶级工控」门槛标准。

宜鼎全球首推宽温DRAM 2666存储器

随着工业物联网与设备智能化扩大应用，为了强调实时效率，未来在元件传递数据的瞬间，就必须开始进行边缘运算，进而大幅缩减数据流量，减低云端运算负荷。宜鼎新发表的全球首款超高速宽温DDR4 SODIMM，具备2666MT/s高速运算与工业级宽温规格双重产品优势，无惧温差变化与硫化污染等多重环境限制，特别符合闸道器、边缘运算服务器等智能化设备的垂直市场需求，目前已成功获得国际服务器品牌大厂订单，并持续强攻工业物联网应用。

硫化威胁无所不在 宜鼎推抗硫全面标准化

工业环境中的硫化物质将使DRAM模块引发化学作用而产生硫化银，并降低传导导致模块无法正常运作。过去工控储存的抗硫化技术常被视为定制化的加值服务之一，然而宜鼎团队发现，环境中的硫化威胁其实无所不在，不仅石化、矿采、能源发展等特定产业需要导入抗硫化设备，即使一般工厂中也经常潜藏着硫化物威胁，举凡大型机械中经常使用的机油、橡胶垫圈、轮带、金属铜扣等都是环境中的硫化来源之一，且其硫化影响常容易被众人忽略。因此，自2018年6月起，宜鼎主动于全系列DDR4产品中无偿导入抗硫化技术，使其成为标准品规格之一。

宜鼎国际DRAM事业处副总张伟民表示，「过去工控领域由于产品导入期长，从市场端需求到回应期至少一年。而身为全球工控领导品牌，宜鼎认为，未来的工控厂商应具备洞悉产业趋势的能力，从回应需求的被动态度进阶至主动领导的角色，在需求出现之前就准备好解决方案，提升自我价值至进阶工控的层级。也因此，宜鼎本次主动将抗硫化技术提升为基本规格，并以超乎业界期待之姿，持续坐稳全球工控市占。」